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18922517093yokohamarika半導(dǎo)體制造設(shè)備的優(yōu)勢
半導(dǎo)體制造設(shè)備 | 光刻膠、顯影劑、沖洗液、蝕刻劑、去除劑、清洗液、抗蝕劑去除劑 |
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產(chǎn)品概覽
有效去除半導(dǎo)體制造過程中使用的化學(xué)品和溶劑中的氣泡和溶解氣體。
去除光刻膠、顯影劑、沖洗液、蝕刻劑、去除劑、清洗液、抗蝕劑剝離液等化學(xué)溶液中的氣泡和溶解氣體。
通過去除它，可以預(yù)期產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定性和成品率提高等效果。
有效去除氣泡和溶解氣體，這對于控制化學(xué)品和溶劑的濃度和體積是*，可以實現(xiàn)精確的化學(xué)品控制。
它環(huán)保且成本低。
?消除半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的問題氣泡，穩(wěn)定質(zhì)量，提高成品率，防止故障。
? 有效去除阻礙化學(xué)品和溶劑濃度和體積控制的氣泡和溶解氣體。
低價格——氟脫氣模塊（化學(xué)品/溶劑用）是高性能低價格的脫氣模塊。
與傳統(tǒng)氟基（PTFE）脫氣模塊相比，產(chǎn)品性能提升，價格降低40%。
該產(chǎn)品價格低廉，非常適合正在考慮脫氣設(shè)備的客戶。
產(chǎn)品特點
與傳統(tǒng)的PTFE（氟基）脫氣模塊相比，產(chǎn)品性能得到提升，價格大幅降低。
PTFE（氟系）等助劑無溶出，不易附著污垢的PFA全部用于接液部，適用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
您可以放心使用。
脫氣效率高，對流量的依賴性小，因此即使增加流量，脫氣能力也不會明顯下降。
氟樹脂膜概要
耐化學(xué)性：耐大多數(shù)化學(xué)品和溶劑，氟基化學(xué)品和溶劑除外。
耐沾污：污漬不易附著，即使附著也可輕松去除。
非洗脫：不洗脫金屬離子等雜質(zhì)。通常，氟基樹脂膜（PTFE）在加工過程中會添加助劑。
產(chǎn)品有助劑浸出，但含氟脫氣模塊不使用助劑，干凈。
產(chǎn)品陣容
我 莫 通過并聯(lián) MF1000-2，可以處理 1000ml/min 以上的流量。
最大流量 通大氣飽和水溶解氧去除率80%以上時，最大流量50%以上，水溫25℃，真空度12kPa（約90torr）
內(nèi)部能力 內(nèi)部體積包括脫氣模塊內(nèi)的氣體分離膜、管道和接頭
薩 胃 Z 外形尺寸（不包括突出部分）
評價
使用該脫氣模塊時，需要滿足以下條件之一。
?真空泵或真空管線
?帶真空控制功能的真空泵
